英特尔完成首台商用高数值孔径 EUV 光刻机组装
4 月 18 日,美国芯片公司英特尔宣布,已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻机。据介绍,这套重达 165 吨的设备是阿斯麦(ASML)与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备,现位于俄勒冈州的 D1X 制造工厂,正在进行最后的校准。
来源:财经慢报频道
4 月 18 日,美国芯片公司英特尔宣布,已接收并完成组装业界首台商用高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻机。据介绍,这套重达 165 吨的设备是阿斯麦(ASML)与英特尔合作数十年后开发的新一代光刻设备,现位于俄勒冈州的 D1X 制造工厂,正在进行最后的校准。
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